photolithography相关论文
在二元光学衍射微透镜的制作工艺中, 光刻胶的行为和特性对衬底的最终图形有着极为重 要的作用。光刻和刻蚀两道工序都要求实际图......
基于角谱衍射理论，对扫描积分塔尔博特光刻术进行了理论分析与数值模拟。研究了扫描距离、扫描起始位置、扫描速度非匀速以及照明光......
柔性透明电极因其轻便、柔性、低成本等特点备受广大研究者的关注，在平板显示器、太阳能电池、触控面板等光电器件中具有很好的应用......
提出了一种原位的光刻机投影物镜偏振像差检测方法。定义一种新的偏振像差表征方法,推导了3对正交偏振态照明下空间像之差与偏振像......
针对穆勒矩阵成像椭偏仪的系统误差源提出一种简化分析方法,将光强曲线的理想傅里叶级数系数组与实际系数组进行近似匹配,建立穆勒......
提出了应用于光刻机照明系统照明光场均匀性的高精度校正方法,该方法通过优化手指阵列式均匀性校正器中校正手指前端的形状及其排......
光刻机的照明光瞳性能对曝光图形质量和套刻精度均有重要影响。照明光瞳由光刻机照明系统产生,在光刻机长时间使用后,照明光瞳的性......
光刻用准分子激光器的能量特性在集成电路的光刻过程中至关重要,直接影响光刻机曝光线条的精度。为了实现对于衡量能量特性的能量......
研究了多层微图案的成像特性,将基于光刻技术制作的微米级和高透光微图案附着在透明玻璃基板上,这种带有图案的玻璃基板堆叠约50层......
Large-area polydimethylsiloxane (PDMS) films with variably sized moth-eye structures were fabricated to improve the effi......
Microstructuring of carbon/tin quantum dots via a novel photolithography and pyrolysis-reduction pro
为探究吕家坨井田地质构造格局,根据钻孔勘探资料,采用分形理论和趋势面分析方法,研究了井田7......
介绍了利用AZ4620光刻胶制作截面为5μm×5μm微电镀模的工艺流程,详细说明了工艺流程中影响实验结果的实验参数以及实验参数的优......
应用光刻和薄膜沉积技术,制作了多级衍射光学元件.对制作误差和影响误差的因素进行了分析.给出了改善对准误差的标校方法,并在实际......
采用掩膜电解加工单个微孔的方式研究加工参数对凹坑形貌的影响,该方法具有操作简易以及工件无内应力等优点。采用COMSOL软件对加......
简要介绍了表面放电型ACPDP制作工艺中电极、障壁和荧光粉的厚膜光刻技术,并对这些工艺中所存在的一些问题进行分析和讨论.......
利用化学镀铜方法,结合光刻技术,研究了在阳极氧化Al基板上的金属化布线.设计了完成化学镀铜金属化图形的工艺流程,并对影响图形制......
对一种全聚合物SU8光波导的制备工艺和波导特性进行了研究。测试结果显示，所制备光波导在1550nm的传输损耗为2．01dB／cm，且具有高的侧壁......
研究了曝光剂量对于小孔成型孔径的影响。实验中发现由于SU-8为负性光刻胶,曝光聚焦条件控制不佳会导致倾角较大的倒梯形结构,不利......
针对纳米压印光刻技术中压印脱模后的留膜去除问题,提出了一种基于光刻版的无留膜紫外纳米压印技术.采用传统的光刻版作为紫外压印......
介绍了色分离光栅的设计原理,并对其制作工艺进行了研究。用套刻法以能量为450 eV、束流密度为80 mA/cm2、30°入射角的离子束......
介绍了半导体工艺中光刻版的重要作用，特别针对在实际工艺中使用普通玻璃材质光刻版对产品造成的成品率波动问题。通过对大量实验中......
金属剥离技术是用于空间用太阳电池电极的关键工艺技术。为了实现真空蒸镀直接剥离7 mm金属层的目的,开发了图形反转双层光刻胶金......
对在LiNbO3晶体基片上制作声光可调谐滤波器（AOTF）光刻工艺参数的确定进行了研究．着重研究了匀胶机转速、曝光时间和显影时间对光刻效......
本文通过对涂胶、曝光等影响线宽参数的工艺进行实验,制定了一套工艺规范,使光刻线宽控制在±10%以内,提高了光刻的工艺水平.......
根据移相掩模基本原理,通过光刻工艺模拟提出了一种适于T形栅光刻的新型移相掩模技术--M-PEL.初步实验证明,M-pEL技术可在单层厚胶......
建立了连续深浮雕微透镜列阵光刻工艺的数学模型,通过计算机仿真实现了对工艺过程的模拟分析.为刻蚀过程中各参量的选取和刻蚀结果......
综合叙述了浸没式光刻技术的基本工作原理和相对于157 nm干式光刻技术的优势,简要介绍了当前的研发动态并对其具体实现的问题进行......
集成电路深紫外光刻工艺过程中,硅片表面光阻产生的有机挥发物会结晶在深紫外光刻机里的光学镜头上,随着时间的积累,结晶物变多,会......
概述了光学光刻技术向纳米制造挺进过程中光源、光学系统、照明技术、掩模设计、抗蚀剂、光学邻近效应校正、工作台等方面的进展以......
结合“自上而下”和“自下而上”技术构建微纳米器件是目前纳米科学和技术领域追逐的目标之一。本文首先采用硅氢化反应在硅表面共......
透镜阵列光刻法用一个柱面阵列透镜代替常规光刻法中的柱面透镜形成光程差,将由衍射所引起的瞬变图形错开,消除由于光刻模板与被刻......
建立了光刻工艺中内应力的三维有限元分析模型,采用热-结构耦合分析,研究了胶膜厚度、后烘温度以及降温速率对SU-8胶层中的内应力......
在半导体领域的生产中,光刻是集成电路和分立半导体器件生产过程中的一道关键工序,是利用光刻胶的感光性和耐蚀性在硅系材料或金属......
期刊
通过理论推导，构建了抗蚀荆的感光特性、光源的光效与曝光量之间的数学模型，为液晶光阀代替穿孔带提供了理论依据．结合液晶光阀的工作......
提出了一种实现消色散光变图像的二元光学方法．以不同取向的狭缝光阑作为目标物光场，采用迭代傅里叶变换算法计算得到具有定向衍射特......
采用光刻法制备了薄膜晶体管的银源漏电极，实验中变换不同的刻蚀剂以减少对SiO2栅绝缘层的损害。底接触法蒸镀的酞菁铜作为晶体管器......
准分子激光在激光光刻和微细加工中有广泛的应用,要求激光具有好的稳定性和光束波面均匀性.介绍了准分子激光的波面特性以及波面分......
根据高温超导薄膜的特点，详细讨论了制备高温超导滤波器的光刻技术及在制备的各环节中需注意的问题，实验结果表明：此种方法提高了制备......
